Fused Silica Praeclara Scelerisque et Chemical Properties ut Crucible Material
- Electro-quartz
- Fused vicus
- Fused silica massam
Description
Applications
Silica fusa est materia optima rudis usui in fundis, refractoriis, fundamentis, ceramicis technicis, aliisque applicationibus quae constantem et altam puritatem productam requirunt cum expansione scelerisque nimis humilis.
| Compositio chemica | Primus gradus | Typical | Secundus Gradus | Typical |
| SiO2 | 99.9%min | 99.92 | 99.8% min | 99.84 |
| Fe2O3 | 50ppm max | 19 | 80ppm max | 50 |
| Al2O3 | 100ppm max | 90 | 150ppm max | 120 |
| K2O | 30ppm max | 23 | 30ppm max | 25 |
Processus productionis et Propriae
Silica mixta ex summa puritate silica facta est, technologiae fusionis singularis usus ad summam qualitatem curandam.Noster Fused Silica plus 99% amorphos habet et coefficientem maxime humilem expansionis scelerisque et resistentiae scelerisque inpulsae habet.Silica fusca iners est, optimam stabilitatem chemicam habet et electricam conductionem valde humilem habet.
Vicus fusus praecipuam habet proprietates scelerisque et chemicae sicut materia vascula unius cristalli incrementi e liquefacto, et alta puritas et humilis impensa eam maxime delectabilem facit ad incrementum summae puritatis crystallis. Sed in incremento quorundam generum crystallorum, a. layer of pyrolytic carbonis coating necessaria est inter liquefactum et vicus uasculum.
Key Properties of Fused Silica
Silica fusca varia notas habet tum circa proprietates mechanicas, scelerisque, chemicas et opticas;
• Durum est et robustum, et non nimis difficile ad machinam et politionem.(Adhiberi etiam potest laser micromachining).
• Transitus vitreus princeps temperatus difficilius dissolvit quam alia vitrea optica, sed etiam significat operationes altas temperaturas relative possibilia esse.Tamen silica fusa devitrificationem (chrystalizationem localem in forma cristobalitarum) supra 1100 °C exhibere potest, praesertim sub impressione quarundam immunditiarum vestigii, et hoc proprietatibus opticis corrumpitur.
• Expansio scelerisque coefficientis est valde humilis – circa 0.5 · 10−6 K−1.Hoc pluries humilius est quam in specula typica.Etiam scelerisque dilatatio circa 10−8 K−1 multo debilior fieri potest cum modificata forma silicae fusae cum dioxide quodam titanio, a Corning [4] introducto, et ultra vitrum expansionem humilem vocavit.
• Princeps scelerisque concussa resistentia est ex infirma expansione scelerisque;Modus est accentus mechanicus etiam cum graduum caliditatis caliditas accidit propter refrigerationem celeri.
• Silica chemica valde pura esse potest, ratione fabricandi (vide infra).
• Silica chemica valde caret, excepto acido hydrofluorico et solutionibus valde alkalinis.Ad temperaturas elevatas, est etiam aliquantum solubile in aqua (substantialiter plus quam vicus crystallinus).
• Diaphaneitas regio satis lata est (circiter 0,18 µm ad 3 µm), usum silicae infusae praebens non solum per totam regionem spectralem visibilem, sed etiam in ultraviolaceo et ultrarubro.Sed termini substantialiter dependent a qualitate materiali.Exempli gratia, vincula valida ultrarubrum effusio ex OH contenti causari possunt, et UV effusio immunditiarum metallicarum (vide infra).
• Materia amorphosa, silica fusa, optice isotropica est, contra vicus crystallinus.Hoc implicat quod nullam birefringentiam habet, eiusque index refractivus (vide figuram 1) una formula Sellmeier insigniri potest.
